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硒化鋅晶體拋光、氟化鈣晶體拋光、氟化鎂晶體拋光：

硒化鋅晶體：一種黃色透明的多晶材料，由化學氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質吸收, 散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統(tǒng)中光學器件的首選材料。

硒化鋅晶體用來制作全反射鏡、半反射鏡、擴束鏡、平場透鏡、中紅外鏡片、遠紅外10.6Um/CO2大小功率激光器上各種平凸透鏡、凸凹月牙切割透鏡、鍍金反射鏡、圓偏振鏡、擴束鏡、平場透鏡等，廣泛應用于激光、醫(yī)學、天文學和紅外夜視等領域中。

氟化鈣晶體：氟化鈣晶體（calcium fluoride crystal），是化學式為CaF2的晶體。屬立方晶系，透光波段為0.13~10μm的光學晶體材料。氟化鈣晶體（caf2）透過范圍從真空紫外的130nm到遠紅外的9μm，氟化鈣晶體被廣泛應用于真空紫外到紅外光譜中的窗口材料、透鏡和棱角等光學器件中。由于具有低的吸收，氟化鈣晶體也被應用于高功率激光光學中。在一般情況下，氟化鈣的拋光表面非常穩(wěn)定，可以使用很多年。此外，較低的折射率使得該晶體在沒有防反射鍍膜的情況下直接使用。紅外氣體分析儀器的透光片，不可見光譜范圍的消色差鏡頭。高質量的顯微鏡、天文望遠鏡；公安偵破案所用的紅外照相機、紅外錄像機的特種鏡頭。廣泛應用于國防、軍事、航空、空間技 術等領域。

氟化鎂晶體：英文名稱magnesium fluoride crystal化學式為MgF2的晶體。屬四方晶系，透光波段為0.11~9μm的光學晶體材料。是優(yōu)良的紫外、紅外窗口材料。

氟化鎂晶體結構：①氟化鎂的化學式位MgF2，分子量位62.3，無色結晶或白色粉末；②在燈光下產生紫色熒光；③溶于硝酸，難溶于水和乙醇。④熔點1248℃，有毒。⑤氟化鎂具有四方金紅石結構，空間群為P42/mnm，晶胞參數(shù)為a=b=0.4615nm，c=0.3043nm，a=β=γ=90°⑥氟化鎂晶胞中每個氟離子周圍有3個鎂離子，每個鎂離子周圍有6個氟離子。

氟化鎂晶體的性能：氟化鎂具有很多優(yōu)良的性能，如：①高溫下的低化學活性及高抗腐蝕性；②高熱穩(wěn)定性以及高硬度；③從真空紫外120nm到紅外的80μm范圍內非常優(yōu)異的透過率、低折射率（n=1.38）；④寬帶隙（10.8eV），在真空紫外波段到紅外波段吸收均很小。⑤此外，氟化鎂晶體還具有雙折射性能和較高的激光損傷閾值。這些優(yōu)異性能使得氟化鎂在光學、催化及其它眾多領域都有很重要的應用。科學在進步，在不斷的改變人們的生活，同時對材料的要求也越來越高。氟化鎂的應用也越來越廣泛，其性能及結構都凸顯出了它的應用優(yōu)勢。氟化鎂晶體的特性分析。迄今為止所知材料中，氟化鎂晶體是真空紫外波段透光性能最好的材料之一。近年來，氟化鎂的應用領域是越來越廣泛了，特別是隨著紫外及紅外波段光電技術的飛速發(fā)展，氟化鎂在激光元件、OLED發(fā)光、集成光學、光纖通訊、紙幣防偽等高端領域的應用日漸增多。

晶體材質的研磨和拋光（硒化鋅晶體拋光、氟化鈣晶體拋光、氟化鎂晶體拋光）：

為達到光學要求，硒化鋅的表面要經(jīng)過研磨和拋光等一系列處理。 硒化鋅比普通光學玻璃軟，晶體磨耗度大約在800-1000，很容易被刮傷，因此對研磨耗材的要求極高，既要達到表面光潔度的要求，又要避免造成劃傷。

晶體的研磨拋光的工藝中，主要有進口氧化鋁微粉，及目前流行進口稀土拋光粉，成本相對較高，晶澤光學針對晶體材質的特性研究的晶體專用拋光液“ICF-303拋光液”，從良品率、表面光潔度完美解決拋光中遇到的各種問題。精拋后可以達到20-10以上，去除表面劃傷。詳細拋光工藝請及樣品提供請致電：13355295586王